欧盟委员会表示,这些措施将通过支持建设具有开创性的半导体生产设施,进一步增强欧盟在全球半导体价值链中的地位和自主能力,符合欧委会《欧洲芯片法案》(AChipsActforEurope)以及2024—2029年政治指导方针所设定的目标。德国将为以下半导体设施建设提供直接补贴:3.53亿欧元:支持中小企业Element3-5GmbH在德国北莱茵-威斯特法伦州Baesweiler建设碳化硅(SiC)外延晶圆生产工厂;2.14亿欧元:支持VishaySiliconixItzehoeGmbH(Vishay)在德国石勒苏益格-荷尔斯泰因州Itzehoe建设工厂,用于生产N沟道和P沟道硅功率MOSFET;7440万欧元:支持KLA-TencorMIEGmbH(KLA)在德国黑森州Weilburg建设工厂,用于生产先进光学套刻(overlay)和薄膜计量设备;1790万欧元:支持KETEKGmbH在德国巴伐利亚州慕尼黑建设工厂,用于生产两类高度专业化芯片:硅漂移探测器(SDD)和石墨烯辐射入口窗口(GREW)。上述四项援助均由德国联邦政府预算和相关州政府共同提供资金。广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,亚汇网所有文章均包含本声明。
风险提示
外汇交易涉及高风险,可能不适合所有投资者。杠杆交易可能导致快速亏损,请确保您完全理解相关风险。过往表现不代表未来结果。
本分析仅供参考,不构成投资建议。投资者应根据自身情况做出独立判断,并承担相应风险。